件名:磁歪材料の製造方法
公開番号:2018-203563
登録番号:6958854
件名:半導体結晶の成長装置
公開番号:
登録番号:4916736
件名:単結晶成膜方法
公開番号:
登録番号:5265985
件名:気相成長装置および気相成長方法
公開番号:
登録番号:5719710
件名:半導体製造装置、半導体製造方法及び半導体製造装置のクリーニング方法
公開番号:
登録番号:5820143
件名:サセプタの処理方法および半導体製造装置の処理方法
公開番号:
登録番号:5479260
件名:半導体製造装置およびサセプタのクリーニング方法
公開番号:
登録番号:5542560
件名:炭化珪素半導体成膜装置およびそれを用いた成膜方法
公開番号:
登録番号:6065762
件名:半導体製造装置
公開番号:
登録番号:6405859
件名:成膜装置、サセプタ、及び成膜方法
公開番号:
登録番号:6444641
件名:炭化珪素半導体成膜装置およびそれを用いた成膜方法
公開番号:
登録番号:9879359
件名:サセプタ処理方法及びサセプタ処理用プレート
公開番号:
登録番号:6320831
件名:成膜装置、成膜方法及びリフレクタユニット
公開番号:
登録番号:6208063
件名:炭化珪素半導体のエピタキシャル成長装置
公開番号:
登録番号:6550962
件名:化学気相成長装置に用いられるサセプタおよびそれを備えた化学気相成長装置
公開番号:
登録番号:6372310
件名:電力供給設備
公開番号:
登録番号:7001555
件名:電力変換機器、発電設備
公開番号:2020-068584
登録番号:
件名:振動発電装置
公開番号:2021-72707
登録番号:
件名:固有振動数の調整ができる振動発電装置、及び、固有振動数の調整ができる振動発電方法
公開番号:2021-175211
登録番号:
件名:成膜装置及び成膜方法
公開番号:2015-73000
登録番号:6158025
件名:SiCエピタキシャルウェハ及びその製造⽅法
公開番号:US-2020-0083330-A1
登録番号:11107892
件名:成膜装置および成膜方法
公開番号:
登録番号:6000676
件名:成膜装置および成膜方法
公開番号:
登録番号:10-1420126
件名:成膜装置および成膜方法
公開番号:
登録番号:9,598,792
件名:成膜装置および成膜方法(国内優先権主張出願)
公開番号:
登録番号:6038618
件名:成膜装置および成膜方法
公開番号:
登録番号:6026333
件名:成膜装置および成膜方法
公開番号:
登録番号:5732284
件名:成膜装置および成膜方法
公開番号:
登録番号:5542584
件名:成膜装置および成膜方法
公開番号:
登録番号:5646207
件名:炭化珪素の成膜装置および炭化珪素の成膜方法(国内優先権主張出願)
公開番号:
登録番号:6091932
件名:炭化珪素半導体のエピタキシャル成長装置
公開番号:
登録番号:6540270
件名:炭化珪素半導体のエピタキシャル成長装置
公開番号:
登録番号:6547444
件名:SiC化学気相成長装置
公開番号:
登録番号:6376700
件名:SiCエピタキシャルウェハの製造方法及びSiCエピタキシャル成長装置
公開番号:
登録番号:6362266
件名:成膜装置
公開番号:
登録番号:6664993
件名:SiCエピタキシャルウェハの製造方法及びSiCエピタキシャル成長装置
公開番号:
登録番号:10262863
件名:SiCエピタキシャルウェハ及びその製造方法
公開番号:
登録番号:6832240
件名:SiCエピタキシャルウェハ及びその製造方法
公開番号:
登録番号:6762484
件名:SiCエピタキシャルウェハ及びその製造方法
公開番号:
登録番号:ZL201880032744.8
件名:SiCエピタキシャルウェハ及びその製造方法
公開番号:US-2019-0376206-A1
登録番号: