かまた いさほ
Isaho Kamata
半導体マテリアル・デバイスに関する研究
SiC単結晶膜中欠陥の高分解能非破壊観察法の開発
厚膜 SiC 単結晶成長ならびに SiC 表面吸着質・酸化膜評価に関する研究
高電圧炭化ケイ素(SiC)pnダイオードのプロセス技術の開発 -通電劣化抑制手法の基礎検討と高電圧SiC pnダイオードの試作-
大容量SiCパワー半導体素子に向けたエピタキシャル結晶成長技術の開発 -低マイクロパイプ密度,厚膜・高純度4H-SiCエピタキシャル単結晶膜の形成-